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photoresist光刻胶
纳米压印胶
添加时间:2023-10-06 15:13:57
纳米压印胶
详细介绍:
类型
光刻胶型号
适用光谱
厚度范围/um
分辨率
适用工艺
可用显影液
可用去胶液
纳米压印胶
mr-NIL 6000E
热固化和UV固化
0.1-1
50nm
可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等
mr-I 9000M
热固化
0.1-1
50nm
mr-UVCur21
UV固化
0.1-5
50nm
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