紫外光刻胶-薄胶

S1800系列

g-Line,
           broad line

0.5-3.5

0.5um

正性光刻胶，稳定性好；适用于分辨率要求较高的光刻工艺

AZ5214

g/h/i-Line

1-2um

0.5um

反转胶

BCI-3511

i-Line

0.5-2

0.5um

正性i线光刻胶，适用于各类接触式光刻机（mask aligner）、stepper

SPR 955

i-Line

0.5-3.5

0.35um

正性i线光刻胶，适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀

AZ 1500

g/h/i-Line

0.5-5

正性光刻胶，广泛应用于半导体制造