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photoresist光刻胶

纳米压印胶

添加时间：2023-10-06 15:13:57

纳米压印胶

详细介绍：

类型	光刻胶型号	适用光谱	厚度范围/um	分辨率	适用工艺	可用显影液	可用去胶液
纳米压印胶	mr-NIL 6000E	热固化和UV固化	0.1-1	50nm	可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等
	mr-I 9000M	热固化	0.1-1	50nm
	mr-UVCur21	UV固化	0.1-5	50nm

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