首页 > 产品展示 > photoresist光刻胶

photoresist光刻胶

宽带厚胶

添加时间:2023-10-06 15:14:39

宽带厚胶

详细介绍:

 

类型 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
宽带厚胶 SU-8 10系列 g/h/i-Line 0.1-200 0.5um 负性环氧类化学放大光刻胶,具有高深宽比,光刻后可以达到非常好的陡直度.
导电SU-8(GCM3060) 1-50 负性环氧类光刻胶;可导电、粘合性较好,图层应力降低
SPR220 g/h/i-Line 1—30 1um 正性光刻胶,用于MEMS和Bump工艺
NR26-25000P g/h/i-Line 20-130   负性光刻胶,适用于各类接触式光刻机(mask aligner)、stepper、scanner
AZ P4620 g/h/i-Line 6—20 1um 正性光刻胶

 

SU-8规格(常年现货供应)

型号

GM1010

GM1020

GM1030

GM1040

GM1050

GM1060

GM1070

GM1075

厚度/um
   (5000-1000rpm)

< 0.2

< 0.5

< 1.5

0.8-3.2

2.2-8.4

5-27

15-92

50-192